电子半导体行业用超纯水设备高纯水设备18MΩ

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18MΩ电阻率。
半导体行业对水质的要求极其严格，因为即便是极微量的杂质也可能影响半导体芯片的性能和良品率。因此，超纯水设备在半导体制造业中扮演着至关重要的角色。
以下是一套典型的超纯水（Ultra-Pure Water, UPW）生产设备的构成和工艺流程：
设备构成与工艺流程：
1. 预处理：
•原水预处理：包括多介质过滤器（去除大颗粒悬浮物、胶体）、活性炭过滤器（吸附有机物、余氯）、软化器（去除硬度离子，如Ca²⁺、Mg²⁺）等。
•反渗透（RO）：利用半透膜技术，去除水中大部分的无机盐、有机物、细菌和病毒。RO系统通常能将水的电阻率提高到1-18 MΩ·cm。
2. 深度处理：
•EDI（Electrodeionization）电去离子：在不使用化学再生的情况下，通过直流电场的作用，连续去除水中剩余的离子，进一步提高水质，电阻率可达到18 MΩ·cm或更高。
•抛光混床：采用特定的阳离子和阴离子交换树脂混合，进一步去除残余的离子，出水电阻率可达到18.2 MΩ·cm，这是半导体行业中常见的超纯水标准。
3. 终端处理：
•紫外线消毒或臭氧消毒：去除或杀死微生物，防止细菌在超纯水中生长。•过滤：采用0.2μm甚至更小孔径的微滤或超滤膜，去除任何残留的颗粒物。
•管路与储罐材质：使用不锈钢或特殊塑料（如PVDF）制成，以避免二次污染。
4. 循环与分配系统：
•循环泵和分配系统：确保超纯水在整个制造流程中保持纯净，并在需要时即时供应。
5. 监测与控制：
•在线水质监测：实时监控电阻率、TOC（总有机碳）、微生物含量等指标，确保水质稳定。
•自动控制系统：根据监测数据自动调节处理参数，如pH值、电导率等，以维持水质在设定范围内。设备特点与要求：
•率：确保持续、地生产超纯水。
•无菌：整个系统设计需高度注重防止外界污染，包括使用无菌连接、无死区设计等。
•控制：包括水质监测和系统控制的性，以适应半导体制造对水质的严苛要求。
•维护与清洁：定期的维护清洗，包括CIP（就地清洗）和膜的化学清洗，以维持系统长期稳定运行。
半导体行业用的超纯水设备设计和建造都需遵循严格的行业标准，如SEMICON、ASTM等，以确保水质满足高等级的半导体生产需求。
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