半导体封装超纯水设备，湖州半导体清洗超纯水设备
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更新时间：2020-12-26 08:46:07 信息编号：121219560

￥150000	1台
￥140000	≥ 2台

价格：
150000.00 元
品牌：
伟志
规格：
全自动
关键词：
湖州半导体清洗设备,湖州超纯水设备

赵渊珍

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详情介绍

产品别名	湖州纯水设备,湖州半导体清洗设备,湖州EDI超纯水设备	面向地区	浙江湖州	品牌	伟志
规格	全自动	加工定制	是

半导体封装超纯水设备，湖州半导体清洗超纯水设备

半导体封装超纯水设备，湖州半导体清洗超纯水设备

半导体清洗超纯水设备水质标准：

半导体芯片清洗超纯水设备出水水质完全符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准）、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。

新兴的光电材料生产、加工、清洗；LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。

半导体清洗超纯水设备制备工艺：

1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象（≥15MΩ.CM）(传统工艺)

2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象（≥16MΩ.CM）(新工艺)
3、预处理→反渗透→加药机（PH调节）→中间水箱→第二级反渗透（正电荷反渗膜）→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象（≥17MΩ.CM）(新工艺)

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